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2025-03
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杭州士兰微电子（SILAN）作为国内半导体企业，在MOS管领域拥有丰富的产品线和技术积累集成化设计：如SD6853/6854内置高压MOS管，省去光耦和Y电容，简化电源方案（2011年推出，后续升级至满足能源之星标准）。工艺迭代：
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可变电阻区：当栅极电压VGS大于阈值电压VTH时，在栅极电场的作用下，P型衬底表面的空穴被排斥，而电子被吸引到表面，形成了一层与P型衬底导电类型相反的N型反型层，称为导电沟道。此时若漏源电压VDS较小，沟道尚未夹断，随着VDS的增
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2025-03
星期 六
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