服务电话：
新闻中心
您当前的位置：首页 > 新闻中心
-
01
2026-09
星期 二
-
广州磁控溅射过程 广东省科学院半导体研究所供应
选择钨膜磁控溅射方案时，需要综合考虑薄膜的应用需求、设备性能和工艺参数。钨膜因其优良的导电性和耐腐蚀性，常用于微电子互连层和接触层，选择合适的溅射工艺对实现所需薄膜性能至关重要。首先，应明确薄膜的厚度范围和均匀性要求，根据基底尺寸
-
01
2026-09
星期 二
-
广州直流磁控溅射过程 广东省科学院半导体研究所供应
广东省科学院半导体研究所在反应磁控溅射领域的工艺优化成果，尤其在化合物薄膜制备中形成技术特色。针对传统反应溅射中靶材“中毒”导致的沉积速率骤降问题，团队采用脉冲磁控溅射技术，通过优化脉冲频率与占空比，平衡了靶材溅射与表面反应速率。
-
31
2026-08
星期 一
-
广州智能磁控溅射分类 广东省科学院半导体研究所供应
在科研和工业生产中，针对不同应用场景对氧化硅薄膜的性能和结构要求各不相同，定制化的氧化硅磁控溅射服务因此显得尤为重要。定制过程涵盖溅射参数的准确调整，包括靶材纯度、气体组成、功率设定及沉积速率等，以满足特定的膜层厚度、均匀度及光学
-
31
2026-08
星期 一
-
广州5G半导体器件加工流程 广东省科学院半导体研究所供应
超表面半导体器件作为新兴的纳米结构材料，凭借其在光学、电磁波调控领域的独特优势，逐渐成为科研和产业界关注的热点。针对超表面半导体器件的加工技术咨询，需求主要集中在如何实现高精度的微纳结构制造、材料选择、工艺参数优化以及性能评估等方
-
31
2026-08
星期 一
-
广州反应磁控溅射平台 广东省科学院半导体研究所供应
广东省科学院半导体研究所在磁控溅射的等离子体诊断与调控方面开展了深入研究。通过集成朗缪尔探针与发射光谱诊断系统，实时监测磁控溅射过程中的电子温度、等离子体密度等关键参数，揭示了磁场强度与等离子体特性的内在关联。基于诊断数据建立的工
推荐资讯