服务电话：
新闻中心
您当前的位置：首页 > 新闻中心
-
29
2026-05
星期 五
-
广州智能磁控溅射用途 广东省科学院半导体研究所供应
铝膜在电子信息及集成电路领域具有广泛的应用价值，其制备工艺的质量直接影响器件性能。磁控溅射镀膜工艺通过高能粒子撞击铝靶，促使铝原子从靶材表面脱离并沉积到基板上，形成均匀且致密的铝膜层。该工艺的关键在于控制溅射参数，如靶功率、气压、
-
29
2026-05
星期 五
-
广州双靶磁控溅射仪器 广东省科学院半导体研究所供应
化合物材料磁控溅射工艺是一种利用高能粒子轰击高纯度靶材，经过复杂的粒子散射和靶原子级联碰撞过程，将靶材原子溅射出来并沉积在样品表面的先进工艺。此工艺特别适合制备AlN、ITO、SiN、ZnO、IGZO等功能性化合物薄膜，广泛应用于
-
29
2026-05
星期 五
-
广州高温磁控溅射工艺 广东省科学院半导体研究所供应
在现代微纳加工领域，磁控溅射技术因其独特的物理成膜机制而备受关注。高精度磁控溅射技术通过将高能粒子撞击固定的高纯度靶材，促使靶原子脱离靶面，随后这些原子穿过真空环境沉积于基板表面，形成均匀且致密的薄膜。这种技术的关键在于对溅射过程
-
29
2026-05
星期 五
-
广州压电半导体器件加工步骤 广东省科学院半导体研究所供应
选择合适的功率器件半导体器件加工公司，是确保产品质量和研发效率的重要环节。一个理想的加工公司应具备完整的加工工艺体系，涵盖光刻、刻蚀、薄膜沉积、掺杂、切割和封装等关键步骤，能够实现从研发到中试的全流程支持。加工公司还需拥有先进的设
-
29
2026-05
星期 五
-
广州双靶磁控溅射分类 广东省科学院半导体研究所供应
在光学薄膜制备领域，广东省科学院半导体研究所的射频磁控溅射技术展现出独特优势。针对非导电光学功能材料的沉积难题，团队优化了射频电源参数与真空腔体环境，通过精确控制氩气流量与溅射功率，在玻璃及柔性基底上实现了高透明度、低损耗薄膜的可
推荐资讯