服务电话：
新闻中心
您当前的位置：首页 > 新闻中心
-
29
2026-06
星期 一
-
广州多层磁控溅射特点 广东省科学院半导体研究所供应
在磁控溅射靶材的回收与再利用领域，研究所开发了环保型再生工艺。针对废弃靶材的成分特性，采用机械研磨与化学提纯相结合的预处理方法，去除表面氧化层与杂质，再通过磁控溅射原理进行靶材再生——将提纯后的材料作为靶材，通过溅射沉积于新的衬底
-
29
2026-06
星期 一
-
广州平衡磁控溅射用处 广东省科学院半导体研究所供应
金属薄膜磁控溅射咨询服务旨在为科研机构和企业提供专业的技术方案和工艺指导，帮助用户解决在薄膜制备过程中遇到的各类技术难题。咨询内容涵盖靶材选择、溅射参数设定、设备配置建议以及后续薄膜性能评估。磁控溅射的工艺设计需要考虑靶材的物理性
-
29
2026-06
星期 一
-
广州磁控溅射实验室 广东省科学院半导体研究所供应
在磁控溅射工艺的智能化升级方面，研究所构建了基于大数据的参数优化平台。通过采集数千组磁控溅射实验数据，建立了涵盖功率、气压、温度等参数与薄膜性能的关联模型，利用机器学习算法实现工艺参数的自动匹配。当输入目标薄膜的厚度、电阻率、硬度
-
29
2026-06
星期 一
-
广州单靶磁控溅射流程 广东省科学院半导体研究所供应
磁控溅射加工是一种用于制备功能性薄膜的加工方式，应用于微纳米器件和集成电路领域。该加工过程基于入射粒子与靶材碰撞产生溅射粒子的原理，通过精确控制溅射参数，实现对薄膜厚度、成分及结构的准确调控。磁控溅射加工设备结构相对简洁，能够在较
-
29
2026-06
星期 一
-
广州高温磁控溅射工艺 广东省科学院半导体研究所供应
半导体基片磁控溅射工艺涉及将高能粒子撞击固定的高纯度靶材，通过物理过程使靶材原子从靶表面释放出来，沉积于半导体基片表面形成薄膜。这一过程的关键在于入射粒子与靶原子之间的复杂碰撞和动量传递，形成级联效应，使得部分靶原子获得足够能量离
推荐资讯