
它是用来让信号在预置的电平范围内,有选择地传输一部分信号。大多数二极管都可作为限幅使用,但有些时候需要用到专门限幅二极管,如保护仪表时。[6](3)稳压电路在稳压电路中通常需要使用齐纳二极管,它是一种利用特殊工艺制造的面结型硅把半导体二极管,这种特殊二极管杂质浓度比较高,空间电荷区内的电荷密度大,容易形成强电场。当齐纳二极管两端反向电压加到某一值,反向电流急增,产生反向击穿。[6](4)变容电路在变容电路中常用变容二极管来实现电路的自动频率控制、调谐、调频以及扫描振荡等。[6]二极管工业产品应用经过多年来科学家们不懈努力,半导体二极管发光的应用已逐步得到推广,发光二极管广应用于各种电子产品的指示灯、光纤通信用光源、各种仪表的指示器以及照明。发光二极管的很多特性是普通发光器件所无法比拟的,主要具有特点有:安全、高效率、环保、寿命长、响应快、体积小、结构牢固。因此,发光二极管是一种符合绿色照明要求的光源。[6]发光二极管在很多领域得到普遍应用,下面介绍几点其主要应用:(1)电子用品中的应用发光二极管在电子用品中一般用作屏背光源或作显示、照明应用。
为了实现这一点,作为示例,传导层40覆盖衬底20和沟槽22。层40例如由铝、铝-铜或铝-硅-铜制成。层40可以布置在传导界面层42上。区域302在沟槽中从层40或可能的界面层42延伸。层42例如旨在便于在层40和区域302、204、210以及可能的区域306之间形成电接触件(下面的图2a至图2f的方法)。层42可以由硅化物制成或者可以是例如由钛制成的金属层。层42可以备选地包括硅化物层和金属层,金属层覆盖硅化物层并且例如由钛制成。硅化物因此形成电接触件,而金属层提供对层40的粘附。层42可以至少部分地通过自对准硅化工艺来获得,并且硅化物然后是不连续的并且不覆盖层304的上部部分。层42的厚度推荐地小于300nm,例如小于100nm。由于区域302和沟道区域202通过上述短距离d分离的事实,可以选择沟道区域202的掺杂水平以及区域302的掺杂类型和水平来获得二极管的饱和电流密度,其在25℃时例如在1na/mm2和1ma/mm2之间。推荐地,区域202的掺杂水平在2×1016和1018原子/cm3之间。为了获得该饱和电流密度,区域302是重n型掺杂的(例如大于5×1018原子/cm3),或者更一般地通过与沟道区域202的传导类型相反的传导类型来被重掺杂。电流密度饱和度在此由以下来确定:a)测量由大于。
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